High-K gate dielectrics; HfAlO; ALD; Electrical properties;
机译:低温退火对超声喷雾热解沉积氧化锌薄膜薄膜晶体管电性能的影响:退火时间的影响
机译:射频磁控溅射制备的压缩应变Si_(83)Ge_(17)上HfAIO_x薄膜的界面微观结构和电性能
机译:不同后退火温度退火的ZnO:Al薄膜电性能下降的原因
机译:退火温度对HFAIO薄膜电性能的影响
机译:氢退火和衬底温度对射频溅射氧化锌薄膜性能的影响
机译:具有高性能和超薄厚度的低温可加工非晶InGaZnO薄膜晶体管的周期性脉冲湿退火方法
机译:掺杂浓度和退火温度对溶胶 - 凝胶法对Ga掺杂ZnO薄膜电和光学性质的影响