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【24h】

Towards Si@SiO2 core-shell, yolk-shell, and SiO2 hollow structures from Si nanoparticles through a self-templated etching-deposition process

机译:通过自模镀蚀刻沉积工艺向Si @ SiO2核心壳,蛋黄壳和SiO2中空结构

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摘要

Si@SiO2 core-shell, yolk-shell, and SiO2 hollow structures can be obtained when Si nanoparticles are simply treated by ammonia-water-ethanol solution at room temperature. Their formation mechanism is attributed to the self-templated etching-deposition processes.
机译:当通过在室温下通过氨水 - 水 - 乙醇溶液简单地处理Si纳米颗粒时,可以获得Si @ SiO2核心壳,蛋黄壳和SiO 2中空结构。它们的形成机制归因于自模板化蚀刻沉积过程。

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