non-crystalline SiO2; remote plasma processing; X-ray absorption spectroscopy; vacated O-atoms sites; pre-edge O K edge XAS; medium range order; non-crystalline GeO2;
机译:非晶态SiO _2:与空的O原子本征键合位点相关的加工引起的预先存在的缺陷
机译:远程等离子体沉积非晶态SiO_2和GeO_2的能带电子结构和预先存在的缺陷
机译:带边电子结构以及远程等离子体沉积(RPD)非晶(nc-)SiO_2和GeO_2中的预先存在的缺陷
机译:非结晶SiO_2:处理诱导与冒期的O-原子内在键合位点相关的预先存在的缺陷
机译:6氢碳化硅和4氢碳化硅中本征和离子注入引起的缺陷的电学和光学表征。
机译:电离诱导的碳化硅中预先存在的缺陷的退火
机译:非晶体SiO2:处理引起的与空缺的O原子固有键合位点相关的缺陷