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3R on nickel silicidation: Reduction of CoO for Ni-Pt sputtering

机译：3R镍硅化：用于溅射的COO的减少

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A platinum mine in chamber! Where Pt in target goes by sputtering?

机译：房间里的铂金矿！溅射的目标在哪里？

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来源
《e-Manufacturing Design Collaboration Symposium》|2011年||共15页
会议地点
作者
Futase Takuya; Tanimoto Hisanori;
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正文语种
中图分类 TN3-53;
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