(103)-oriented; Aluminum nitride (AlN); Piezoelectric material; Film bulk acoustic wave resonator (FBAR); Quasi-shear mode;
机译:射频磁控溅射制备(100)取向AlN薄膜的记忆和电性能
机译:射频磁控溅射制备(100)取向AlN薄膜的记忆和电性能
机译:通过射频磁控溅射法制备近1-μm-厚的{100} - 厚度的外延y掺杂的HFO2铁电薄膜(100)Si基板上
机译:射频磁控溅射(103)取向AlN薄膜溅射压力的影响(100)硅衬底
机译:碲化镉和碲化锌薄膜以及太阳能电池的射频磁控三极管溅射。
机译:射频磁控溅射在SrTiO3(100)衬底上制备多铁共取代BiFeO3外延膜
机译:通过射频磁控溅射制备(100)的内存和电性能的(100)的ALN薄膜