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【24h】

研磨パッドの表面状態と複合砥粒の研磨特性の関係

机译:复合磨粒抛光垫表面状况与磨料特性的关系

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摘要

酸化セリウム(CeO_2)は高い研磨能率や高品位仕上げが可能であることから,従来からガラス研磨に広く用いられている.しかしその金属元素であるセリウムはレアアース(希土類)の一種であり,近年のレアアース輸出制限に伴い,酸化セリウム砥粒の価格が高騰している.筆者らは,酸化セリウム使用量低減技術の一つとして,複合砥粒研磨の開発を行っている.複合砥粒は比重の軽いポリマー粒子の表面に酸化セリウム砥粒を付着させることにより作製する.これによりポリマー粒子の表面にのみ酸化セリウム砥粒が存在することとなり,砥粒の比重をコントロールでき分散性が向上することや,研磨後工作物に対する砥粒付着が抑制され,洗浄性が改善されるなどの利点がある.さらにポリマー粒子の形状や比重の検討を行った結果,通常研磨と比較して最大で50%程度研磨能率が向上することがわかっている.一方,遊離砥粒研磨において砥粒と同様に重要な要素が研磨パッドである.研磨パッドは工作物材質や要求される仕上げ面精度や研磨能率に最適なものを選択する必要がある.そこで本研究では,様々な研磨パッドを用いて複合砥粒の研磨特性について評価を行ったので報告する.
机译:由于氧化铈(CEO_2)可以是高抛光效率和高质量的表面,传统上,玻璃抛光广泛用于玻璃抛光。然而,金属元素铈是一种稀土(稀土),随着近期稀土出口限制,氧化铈磨粒的价格上升。使用氧化铈使用减少技术,作者正在作为CE之一开发作为CE之一的复合磨料晶粒抛光。通过将氧化铈磨粒附着到比重的光学聚合物颗粒的表面来制备复杂的磨粒。其结果是,氧化铈磨粒仅存在于聚合物颗粒的表面上,并且磨料颗粒的比重可以被控制,并且分散性提高,和磨料粘附于后抛光工件被抑制,并且清洁性提高。还有如优点。此外,由于检查聚合物颗粒的形状和比重的结果,已知与正常抛光相比,抛光效率率高高达50%。另一方面,与游离磨粒抛光中的磨粒的重要因素是抛光垫。抛光垫需要选择工件材料的最佳选择以及所需的精加工表面精度和抛光效率。因此,在本研究中,我们使用各种抛光垫评估复合磨粒的抛光特性。

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