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トランスファープリンティングによる両もちはり型マイクロアクチュエータの作製

机译:通过转移保护制造两侧和微审查器的两侧

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摘要

幅広い分野への応用が期待されているMEMS(微小電気機械システム)は自立した機械要素を必要とする.一般に, このような自立構造は犠牲層エッチングなどの半導体プロセスにより作製されているため, プロセスの煩雑さや材料の選択性が低いことが課題である.一方で, トランスファープリンティング(TP)はスタンプに堆積させた材料を基板へ転写することで微細構造を作製する手法である.このことからプロセスが簡易かつ材料の選択性が高いといった特徴がある.しかし, 平面基板への2 次元的な構造作製しか試みられておらず, 自立構造を作製した例はない.さらに薄膜を転写するためにはスタンプや基板の表面を改質するプロセスが必要である.また, MEMSに用いる機械要素は強度の高い材料が要求される.TPによって作製できる構造は表面エネルギーの小さい材料上に成膜した金属薄膜を用いている.そのため, 従来, 機械要素として用いられてきたSi等に比べると強度が低いことが課題である.そこで本研究では, まず図1 に示すようにTP を用いて両もちはり型の自立構造の作製方法を提案する.すなわち, スタンプに成膜した薄膜を微細溝を設けた基板へ転写することで, 両もちはりを作製する.また, 離形かつ接着が行いやすく, 強度の高い薄膜を転写することができれば表面処理を施す必要がない.そのため3 層の薄膜(以下, 3 層膜)の転写を提案する.離形層にスタンプとの付着力が小さい材料, 構造層として強度の高い材料, 接着層として基板との付着力が大きい材料を転写を転写する.本研究では提案手法を用いて単層の両もちはりを作製を実証し, 次いで3 層膜を用いた両もちはりの作製を行うことを目的とする.
机译:MEMS(微机电系统),这是预期要应用于广泛的领域中,需要一个独立的机械元件。一般地,这样一个自我维持的结构是由半导体工艺制造诸如牺牲层蚀刻,所以这是一个问题,即该过程的复杂性和材料的选择性是低的。在另一方面,转印prolithting(TP)是通过转移沉积至印模到基底上的材料制造微结构的方法。本的特征在于这一点,该过程是简单的,并且材料的选择性是高的。然而,没有尝试以产生二维结构到平面基板,并且存在其中的自支撑结构不产生例子。此外,为了转移薄膜,需要修改的印模或基板的表面的工序。另外,用于MEMS机械元件要求具有高强度的材料。可以通过TP被制造的结构使用形成在具有小的表面能的材料的金属薄膜。因此,这是一个问题,即强度低相比Si等通常用作机械元件。因此,在该研究中,首先,如在图1中示出,TP被用来提出一种生产自立式结构的两侧的方法。即,通过形成为印模薄膜转移到在其上设置有微细槽的基板,无论是发球被制造。此外,它不是必要的,如果能够进行具有高强度的薄膜,并且容易地进行具有高强度的薄膜进行表面处理。因此,薄膜的三层转录(以下简称为三层膜)的建议。具有与印章印模一个小的粘附材料是小的,具有高强度材料的材料,和粘合剂层,和具有该基板的密合性大的材料被转录。在这项研究中,它是本发明的一个目的是提供这两者的单一的层,并同时与提出的方法,然后使用三层膜同时执行三个层的制造。

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