ナノメートル面内方向スケールの開発（第三報）光回折計，SEM，AFM を用いた持ち回り測定

摘要

産業技術総合研究所(AIST)計量標準総合センター(NMIJ)は，高分解能レーザ干渉計をXYZ 軸に搭載した原子間力顕微鏡(測長AFM，差動式測長AFM)を用いて一次元グレーティング(回折格子)標準試料のピッチ校正サービス(校正範囲：50nm-8μm)を行っている．第一報では，校正サービスのほかに認証標準物質(CRM)の頒布を視野に入れ，AFM，走査型電子顕微鏡(SEM)及び光回折計(OD)を対象とした面内方向スケール(ピッチ設計値：100, 60nm)の設計·電子線描画による作製·差動式測長AFM による校正及び不確かさ評価を行い，良好な結果が得られた．本報では，深紫外レーザ回折計(OD)，測長SEM(CD-SEM)，市販のAFM 及び差動式測長AFM を用いて面内方向スケールの持ち回り測定を行った．