Vollfeld Nanoimprintlithographie mit flexiblen Stempeln

摘要

Bei der klassischen UV-Nanoimprint Technologie (UV-NIL) lassen sich bezuglich des Stempelmaterials zwei Verfahren unterscheiden: Zum einen die Verwendung eines harten Quarzglas Stempels, mit dem sich eine Auflosung von weniger als 20 nm erreicht lasst. Bei solchen Stempeln ist jedoch die maximale Imprintflache auf ca. 5-10 cm~2 begrenzt, da die Oberflache der Substratmaterialien nur eine endliche Ebenheit besitzt. Die Alternative, die Verwendung von einem weichen Stempel, z.B. aus PDMS, ermoglicht dagegen das Imprinten auf grossen Flachen, kommt es hier jedoch oft zu einer Strukturdeformationen aufgrund des fur den Imprintprozess und dem Ausgleich der Substratunebenheiten notwendigen hohen Druckes. Philips und SUSS MicroTec entwickelten hier auf Basis der Maskaligner Technologie eine substratkonforme Imprinttechnik (Substrate Conformal Imprint Lithography (SCIL)), die die technische Lucke zwischen UV-NIL Anwendungen mit hartem Stempel fur hochste Auflosung, sowie Anwendungen mit weichem Stempel fur die Strukturierung von grossen Flachen schliesst. Der Vorteil dieser Technik liegt zum einen in dem Aufbau des Stempels, sowie dem sequentiellen Imprintprozess. Der Stempel, bei dem das PDMS auf eine nur 200μm dunnen flexiblen Glasplatte aufgebracht wird ermoglicht einen nahezu drucklosen Imprintprozess wahrend der sequenzielle Imprintprozess Lufteinschlusse auch bei grosseren Flachen verhindert.