湿式めっき法によるWC-Ni系薄膜形成に及ぼす熱処理条件の影響

摘要

本研究では、安価および簡便に実施できる湿式めっき法を用いて、WC-Ni系薄膜形成法の確立を検討した。試験片基材に対して、無電解Niめっき膜を下地とし、電気Ni-Wめっき、炭素蒸着を順次施した上で、還元性ガス雰囲気において拡散熱処理を付与することにより、WC-Ni系薄膜を作製した。熱処理環境を還元性ガス雰囲気にすることで、形成薄膜の酸化の抑制、部分的熱処理の回避、熱処理時発生ガスの排除を期待した。熱処理後試験片に対して、X線回折による成分分析、走査型電子顕微鏡（SEM）での表面·断面観察による薄膜表面性状を評価するとともに、超微小硬さ試験により薄膜の機械的特性を評価した。