H_2-N_2グロ一放電プラズマ中に生じるガスの励起·分解プロセス

机译：H_2-N_2总排出等离子体中产生的气体的激发和分解过程

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H_2-N_2系ガスを用いて発生させたプラズマは，各種電子デバイス材料，鉄鋼および樹脂材料等の表面処理等に広く用いられている．従来の研究から，プラズマ処理においては，プラズマ中のラジカル種及びイオン種などがこの処理効果に影響を及ぼしているため，これら各種の状態を分析することが重要であることが知られている.

机译：使用H_2-N2基气体产生的等离子体广泛用于表面处理，例如各种电子器件材料，钢和树脂材料。从常规研究中，在等离子体处理中，已知这些各种状态是重要的，因为血浆中的自由基物质和离子物质受到该处理效果的影响。

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来源
《日本材料科学会学術講演大会》|2012年||共2页
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作者
仲田英起; 二見崇士; 深井浩輝;
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中图分类 TB3-532;
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1. NTTら業界団体を設立光通信技術を研究日本電信電話(株)(NTT、東京都千代田区)、米インテル、ソ二ー(株)(東京都港区)の3社は、新たな業界団体を設立する。光電融合技術を活用したフォトニクス関連技術の研究開発などを推進し、超大容量通信に対応できる光ネットヮーク技術の確立などを目指してハる。3-3プロセッシング領域狙う国内DRAM大手のェルピーダメモリを買収し、大きく飛躍を遂げた米マイクロンテクノロジー。2017年にはサンディスク共同創業者の1人である、Sanjay Mehrotra (サンジエイ·メイロトラ)氏を招聘。経営体制も刷新され、大きく生まれ変わった「新生マイクロン」を全面に押し出した。米サンフランシスコで開催されたプライベートイベント「MlicronInsight 2019」(現地10月24日開催)では、同社のあるべき将来像に対するメッセージが随所に散りばめられていた。 [J] . 半導体産業新聞 . 2019,第2372期

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