Ar-N_2系およびAr－NH_3系スパッタガスを用いたRF反応性スパッタリングによるBN膜の作製

摘要

窒化物薄膜は高硬度や耐摩耗性を有し、耐食性や電気的特性にも優れた性質を持つ。そのため各種薄膜形成法を別、て薄膜形成が行われ、機能材料として応用されている1）。このうち立方晶窒化ホウ素（c－BN）はダイヤモンドに次ぐ硬度や熱的特性を斉し、かつ鉄との反応性が低いといった特性を有することから工具や耐摩耗部材への応用等について検討されている2）。