Multi-level lens; Independent-exposure lithography; Proximity effect; FAB plasma etching; Non-repetitive process;
机译:使用独立曝光光刻和FAB等离子刻蚀制造多层透镜
机译:纳米压印光刻和化学镀镍镍等离子体蚀刻面罩的制造
机译:干涉光刻和等离子刻蚀在聚对苯二甲酸乙二酯基底上制备纳米结构
机译:使用独立曝光光刻和Fab等离子体蚀刻制造多级镜头
机译:使用纳米球面光刻和RIE刻蚀制造二维纳米结构阵列及其在光学器件中的应用。
机译:使用纳米球刻蚀,软刻蚀和等离子刻蚀制造的等离子纳米结构
机译:使用纳米球刻蚀,软刻蚀和等离子刻蚀制造的等离子纳米结构