高温焼成シリカ水素分離膜の開発と耐水蒸気性の評価

摘要

近年，省エネルギーで水素を製造するため，水蒸気改質膜型反応器の研究が盛hに行われており，耐熱·耐水蒸気性を有する水素分離膜の開発が期待されている．中でも高い熱安定性と細孔径制御に優れるSiO_2膜が注目されており，近年の研究で，CVD法により高温で作製されたSiO_2膜は，高い耐水蒸気性を有すると報告されている［1］．しかし，膜の緻密化メカニズムと耐水蒸気性についての関係は不明確である．