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耐水蒸気性金属ドープシリカ膜の開発とメタン水蒸気改質反応の膜型反応への応用

机译:耐水蒸气性金属掺杂二氧化硅薄膜的研制及甲烷水蒸气重整反应在薄膜型反应中的应用

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摘要

シリカ水素分離膜の耐水蒸気性の向上は極めて重要な研究課題である。金属ドープシリカ膜を提案し,ニッケルとコバルトが耐水蒸気性向上に有効であることを明らかとしてきた。コバルトドープシリカ膜は,500 ℃,水蒸気圧300 kPで安定性を有し,水素透過率1.8 × 10?7 mol/(m2 · s · Pa),H2/N2透過率比730を示した。耐水蒸気性シリカ膜を用いて,水素,ヘリウムおよび水蒸気の透過特性を検討したところ,水素透過の活性化エネルギーはHe/H2透過率比と良い相関にあった。また,水素の動的分子径(0.289 nm)は水蒸気(0.265 nm)よりも大きいにもかかわらず,H2/H2O比は常に1以上であった。シリカ膜をメソポア細孔( γ -アルミナ)とマクロ細孔( α -アルミナ)からなるバイモーダル支持体にニッケルを担持し,さらにシリカ膜を製膜することでバイモーダル触媒膜を作製した。メタン水蒸気改質に応用し,シリカ触媒膜型反応器が水素製造に有効であることを明らかにした。
机译:提高二氧化硅氢分离膜的耐水蒸气性是极其重要的研究课题。我们已经提出了一种金属掺杂的二氧化硅膜,并阐明了镍和钴在改善耐水蒸气性方面是有效的。钴掺杂二氧化硅薄膜在500°C时稳定,水蒸气压为300 kP,氢渗透性为1.8×10 ?7 mol /(m 2 ·s· Pa),H 2 / N 2 传动比730。当使用耐水蒸气性二氧化硅膜检查氢,氦和水蒸气的渗透特性时,氢渗透的活化能与He / H 2 渗透率具有良好的相关性。此外,尽管氢的动态分子直径(0.289 nm)大于水蒸气的动态分子直径(0.265 nm),但H 2 / H 2 O的比率始终为1。就这些。通过将镍负载在由中孔(γ-氧化铝)和大孔(α-氧化铝)组成的双峰载体上,并进一步形成二氧化硅膜来制备双峰催化剂膜。将其用于甲烷蒸汽重整,并明确了二氧化硅催化剂膜型反应器对制氢有效。

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