高性能樹脂への転写パターン形成

摘要

タッチパネルディスプレイや太陽電池などには，透明導電膜としてスズドープ酸化インジウム（ITO）が一般的に用いられているが，インジウムの輸入規制や低抵抗化などの課題がある。　そこで，ガラス上にチタンを含む感光性金属錯体を塗布した後，フォトリソ法により作製したパターン上に選択めっきを施し1），2），9割以上の光透過部を持つメッシュ状に析出させ，光透過性および低電気抵抗性を両立可能な金属パターンを作製した．さらに，光透過性および電気特性に優れ，低比重であるシクロオレフィンポリマー（COP）樹脂上へ，金属パターンの転写を試みた．