Ga_2O_3薄膜材の微細構造および電気$$光学特性に及ぼす成膜時酸素分圧の影響

机译：氧气分压在薄膜形成过程中的影响 - GA_2O_3薄膜材料的微观结构和电气特性

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現在,ITO（In_2O_3：Sn）を中心とした可視光域透明導電性薄膜材はフラットパネルやオプトエレクトロニクスの分野を中心に応用されており，今後，紫外光域において高い透明性を有する新規透明導電性薄膜材の開発が課題となっている.

机译：目前，以ITO（IN_2O_3：SN）为中心的可见光范围透明导电薄膜主要用于平板和光电子领域，并在未来，紫外线开发的新透明导电率薄膜材料是一个问题。

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来源
《日本金属学会大会》|2007年||共1页
会议地点
作者
重歳恭寛; 武田英久; 着本享;
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正文语种
中图分类 TF-532;
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