氧气流量对NiCrO_(x)薄膜微观结构及性能影响

摘要

为了提高埋入式薄膜电阻材料的电性能和降低其因吸光而产生的热量,采用反应磁控溅射技术开展对NiCrOx埋入式薄膜电阻材料的制备和性能研究,主要探究氧气流量对薄膜的微观结构、方阻值、电阻温度系数和透过率的影响。研究结果表明:氧气流量可影响NiCrOx薄膜的微观结构,从而影响薄膜的方阻值、电阻温度系数和透过率;薄膜的方阻值和透过率随着氧气流量的增加而增加。在氧气流量为15 mL/min时,薄膜具有较好电性能,其方阻值可达到88000Ω/Sq,电阻温度系数可控制在1.91×10^(-5)K^(-1)<|TCR|<332.6×10^(-5)K^(-1)范围内。