IBAD-MgO二軸配向膜における配向度の膜厚依存性と表面粗さ－配向過程における臨界膜厚

摘要

そこで成膜を二段階に分け、臨界膜厚直下においてアシスト電流値を増加させ、成膜レートを下げて成膜を行った試料について配向度を評価したところ、我々のグループにおいて最小の面内配向度（△Φ＝2.2°）を得ることができた。今後は更なる条件の最適化と、長尺プロセスへの適用を進めていく予定である。