masks; sub-100 nm process; integrated simulation; device impact;
机译:优化100纳米以下设计以降低掩模成本
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机译:先进的逻辑技术降低了掩模成本和周转时间
机译:用于子100-NM Technologies的面具成本权衡
机译:EUV掩模技术的主要挑战:光化掩模检测和掩模3D效果。
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机译:个体质量是否掩盖了性能折衷的检测?使用人类身体表现分析进行的测试
机译:采用聚焦离子束光刻技术的亚100nm X射线掩模技术。