不活性ガス環境下におけるレーザ照射による潤滑膜の減耗特性

摘要

現在 10Tb/in~2 程度の超高密度磁気記録を実現するために熱アシスト磁気記録（TAMR）方式が開発されている。この方式はレーザ加熱により磁気ディスク媒体面を200～400°C程度までに加熱し、媒体の保持力特性の温度依存性を利用して瞬間的に情報を書き込む方式である。磁気ディスク媒体面温度が高温になるため、媒体上に存在する超薄膜の液体潤滑膜やDLC 膜の高温特性が大きな問題となる。これまでに我々は、そのような状況下における潤滑剤分子の挙動やDLC 薄膜の劣化特性などについて検討を進めてきた[1]。一方、最近、磁気ヘッドのトラック方向位置決め精度を向上させるため、HDD 内にヘリウムなどの不活性ガスを封入して、風損や空気流加振による構造物の振動を低減する技術が次世代のHDD 装置技術として開発された。従って、次世代TAMR 方式はそのような不活性ガス環境下で実用化されると考えられる。そこで、我々は不活性ガス環境下でのレーザ加熱による潤滑膜の減耗特性を空気環境下のそれと比較することで検討したので以下に報告する。