首页> 外文会议>Meeting of the Electrochemical Society >SELECTIVE ELECTROLESS VAPOR DEPOSITION OF CONDUCTIVE, CATALYTICALLY ACTIVE,HYDROUS RUTHENIUM OXIDE THIN FILMS
【24h】

SELECTIVE ELECTROLESS VAPOR DEPOSITION OF CONDUCTIVE, CATALYTICALLY ACTIVE,HYDROUS RUTHENIUM OXIDE THIN FILMS

机译:导电,催化活性,含水钌氧化膜的选择性化学蒸镀稀膜

获取原文

摘要

Ruthenium dioxide is a chemically diverse material used in numerous commercial applications.Anhydrous RuO_2 exhibits low-temperature stability and metallic conductivity on the order of 10~4 S centre dot cm~(-1),so it is used as a diffusion barrier and bottom electrode and in electronic components and as a low-temperature resistor.
机译:二氧化钌是一种在许多商业应用中使用的化学上多样的材料。ROO_2在10〜4 S中心点CM〜(-1)的阶数上表现出低温稳定性和金属电导率,因此用作扩散屏障和底部电极和电子元件和低温电阻器。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号