SiフォトニックMEMS gratingの作製方法についての検討

摘要

近年、シリコン細線光導波路は光配線や光通信の分野で非常に注目されている。高屈折率差導波路のため、半径数ミクロンの急峻な曲げを可能にし、また、半導体プロセスと相性が良いためにPN 接合などを組み合わせた光変調素子などが容易に作製できる。そこで、我々はこのシリコン細線光導波路とMEMS(micro electromechanical systems)技術を組み合わせて、機械的な駆動によって機能を持たせるフォトニックMEMS 素子を提案している。本発表では、シリコン細線光導波路にグレーティングを作製し、MEMSによる可変波長を実現するための手法を提案する。