机译:具有GZO和AlN缓冲层的RF-MOMBE研究在Si(100)衬底上生长的高质量氮化铟膜
机译:射频等离子体辅助分子束外延生长氮化铟薄膜的纳米压痕研究
机译:具有GZO和AlN缓冲层的RF-MOMBE研究在Si(100)衬底上生长的高质量氮化铟膜
机译:在条件下生长的氮化铟膜的研究导致表观带间隙为0.7EV至2.3EV
机译:在氮化镓上生长的氮化铟镓薄膜的生长和临界层厚度测定。
机译:从封面开始:使用生长在硅(111)上的氮化铟镓进行固态照明的不寻常策略
机译:用GZO和AlN缓冲层,RF-MOMBE在Si(100)底物上生长的高质量氮化亚氮膜的研究