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画像処理によるセラミック溶射皮膜の気孔率に及ぼす研磨条件の影響

机译:抛光条件对图像处理陶瓷热喷涂涂层孔隙率的影响

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摘要

セラミック溶射皮膜の断面組織に基づく気孔率測定方法が2011年にISO TR26946として出版された.TR中では種々の研磨条件が定められているが,規格原案として提案された時点では研磨荷重の指定がなく,国内の複数機関でラウンドロビンテストを実施した結果,研磨荷重によって測定される気孔率が著しく変化することが明らかとなった.そこで本研究では,溶射皮膜本来の気孔率が求められる合理的な研磨条件の確立に向け,研磨荷重,研磨時間,研磨面積などを系統的に変化させた様々な研磨条件でセラミック溶射皮膜を研磨し,画像処理による気孔率に及ぼす研磨条件の影響を検討した.さらに最適な研磨条件の選定に向け,研磨による試料除去量の予測式の導出を試みた.
机译:基于陶瓷热喷涂涂层横截面组织的孔隙率测量方法在2011年作为ISO Tr26946公布。虽然在TR中定义了各种抛光条件,但是当提出作为标准原始提案时,没有研磨负荷,并且由于在日本多个机构进行循环测试的结果,通过抛光负荷测量的孔隙度变得明显它变化显着。因此,在本研究中,我们在各种抛光条件下抛光陶瓷热喷涂涂层,其中系统地改变了抛光负荷,抛光时间,抛光面积等以建立可合理的抛光条件,其中需要散热膜的孔隙率研究了研究通过图像处理抛光条件对孔隙率的影响。此外,对于选择最佳抛光条件,我们试图通过抛光来衍生样品去除体积的预测公式。

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