nanolithography; photolithography; photoresists; masks; hybrid photolithography; nanoimprint; fine patterns; nanolithography; conventional contact aligner; 0.25 micron;
机译:使用常规接触对准仪的压印/照片混合光刻
机译:在掩模对准仪中使用193 nm准分子激光进行接触和接近光刻
机译:使用光学扩散器和接触对准器的灰度光刻
机译:带有传统接触对准器的压印-光混合光刻
机译:电子(尺度)自对准,毛细管辅助光刻,印刷电子产品的新策略
机译:高效的高性能混合光伏垂直排列的ZnO纳米线阵列之间的界面接触和有机半导体
机译:采用双面(结构化)光掩模制作硅通孔制造的优化光刻工艺,用于掩模对准器光刻