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Gray-tone lithography using an optical diffuser and a contact aligner

机译:使用光学扩散器和接触对准器的灰度光刻

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摘要

This paper describes a simple method for the three-dimensional (3D) microfabrication of complex high-aspect structures in a one mask lithography process. The method relies on an unconventional way of performing gray-tone lithography. The main idea is to r
机译:本文介绍了一种简单的方法,可在一个掩模光刻工艺中对复杂的高纵横比结构进行三维(3D)微加工。该方法依赖于执行灰度级光刻的非常规方式。主要思想是

著录项

  • 来源
    《Applied Physicsletters》 |2008年第19期|348-350|共3页
  • 作者单位
  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-18 03:20:37

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