机译:反应直流磁控溅射等离子体电流密度对氮化钛和氧氮化钛薄膜形成影响的研究
机译:通过DC反应磁控溅射物理气相沉积在不锈钢线上的连续模式下,钛和氮化钛薄膜在不锈钢线上的连续方式:化学,形态学和结构研究
机译:直流反应磁控溅射制备氮化钛膜的沉积及性能
机译:直流反应磁控溅射在不同沉积时间制备氮化钛薄膜的表征
机译:非垂直入射反应磁控溅射制备的金属氮化物(氮化铝,氮化钛,氮化ha)薄膜的织构演变。
机译:镧的非反应性溅射沉积和氮化镧的反应性溅射沉积过程中结构形成的原位和实时监测
机译:用DC反应磁控溅射技术制备的Ni0.5Co0.5Fe2O4纳米复合膜特性的影响参数
机译:用于HmC(混合微电路)应用的氮化钽,钛和钯薄膜沉积的DC磁控溅射系统的表征。