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Kinetics of thermal donors and new oxygen donors in silicon

机译:硅热吹塑器和新氧气供体的动力学

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摘要

A model for the oxygen-related donors in Cz-silicon with emphasis on their generation, reduction, and subsequent behavior in the transition region has been developed. A modified SiO$-x$/ model is presented to account for the new oxygen donors. A schematic diagram of the formation of donors and related defects so developed in silicon from the un-annealed to the annealed stage is also given.
机译:已经开发了一种强调转变区域中的CZ-硅中的氧相关供体的模型,其发生了转变区域中的产生,减少和随后的行为。提出了修改的SIO $ -X $ /型号以占新的氧气捐赠者。还给出了从未退火阶段的硅中形成的供体和相关缺陷的形成的示意图。

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