subsurface damage; fused silica; surface damage resistance; ion-beam etching; CeO_2; chemical etching;
机译:通过消除熔融石英中的亚表面损伤来增强表面损伤抗性及其对波长的依赖性
机译:熔融石英的最佳电感耦合等离子体刻蚀,以去除表面下的损伤层
机译:基于KOH的浅蚀刻,用于曝光地下损伤和熔融二氧化硅光学表面的激光损伤阻力
机译:通过去除熔融二氧化硅中的地下损伤来提高表面损伤阻力
机译:熔融石英中的高功率激光损坏。
机译:通过磁流变除湿方法的熔合二氧化硅的快速和非破坏性修复熔融损伤
机译:抛光诱导的地下杂质缺陷对熔融二氧化硅光学激光损伤性的影响及其用HF酸蚀刻去除
机译:FY07 LDRD最终报告用于理解研磨和抛光过程中熔融石英表面损伤的断裂力学和摩擦学方法