二種類のハニカム多孔質体を積層させることによる飽和プール沸騰の限界熱流束の向上

摘要

近年,電子機器の高性能化に伴い,高熱流束·大伝熱面の冷却技術開発が急務となっている．飽和プール沸騰はコンパクト性·省エネルギー性に優れているが,強制流動沸騰に比べると,限界熱流束(以下,q_(CHF))が低いという欠点がある．そこで,著者らは,飽和プール沸騰条件において伝熱面上にハニカム状多孔質体(以下,HP)を装着するという簡易な方法を提案し,q_(CHF) を裸面の約2倍以上向上できることを実験的に示した．HP 装着時にq_(CHF) が向上するのは,(1)毛管力による伝熱面上への液体供給,(2)蒸気排出口からの蒸気排出の効果に起因している．また,以下の式で与えられる毛管限界モデルが提案されている．