机译:基于HF的HfO2去除解决方案; pH和温度对HfO2:SiO2蚀刻选择性的影响
机译:电感耦合的Ar / C_4 F_8等离子体选择性刻蚀HfO_2以及O_2等离子体处理去除Si上的蚀刻残留物
机译:选择性湿法去除Hf基层和高级金属栅极堆叠中的干后蚀刻残留物
机译:几乎无水未加入的HF,用于在等离子体蚀刻后除去基于HF / TA / Zr基的聚合物,选择性地涂铝
机译:高级加工沉积Zr和Al掺入的高k电介质的可靠性研究
机译:掺ZrO2的静电纺PVdF-HFP基锂离子电容器纳米复合聚合物膜电解质的尺寸稳定性和电化学行为
机译:ZrO2掺入的锂离子电容器纳米复合材料高分子聚合物膜电解质尺寸稳定性与电化学性能
机译:超超声空气等离子体中ZrB2和HfB2基超高温陶瓷(UHTC)复合材料的氧化和催化效率