机译:基于鞣酸的新型单组分正电化学放大I线分子玻璃光刻胶
机译:复杂分子刷体系结构的先进光致抗蚀剂技术:基于双嵌段刷三元共聚物的正性光致抗蚀剂材料
机译:酸不稳定的断链聚合物体系,用作可在超临界CO2中显影的正性光刻胶
机译:含2,1,4-DNQ和酸不稳定基团的分子玻璃正i线光刻胶材料
机译:高级光刻胶材料的设计和研究:减少环境影响的正性光刻胶和用于157 nm光刻的材料。
机译:利用厚光刻胶曝光区和非曝光区之间玻璃化转变温度的差异对多孔材料进行微图案化的方法
机译:有机和无机光学材料的特殊用品。使用光灭绝形成侧氨基的正型光致抗蚀剂。共聚单体对光致抗蚀剂溶解性改变和敏感性的影响。
机译:反有机 - 无机复合材料。 3.通过聚(硅酸酯)的高玻璃含量非收缩溶胶 - 凝胶复合材料。 (重新公布新的可用性信息)