intra-field systematic CDU error; CD calibration; CD correction; CDC ratio; multi-field CD correlation;
机译:EUV投票制版光刻技术可减轻印刷掩模缺陷,改善CDU并减少随机故障
机译:高透射率嵌入层在透射率控制掩模中的应用仿真及衰减相移掩模的优化设计
机译:通过采用SnO_2缓冲层的VO_2薄膜的发光透射率和太阳调节能力的同步改进
机译:7OnM DRAM域内CDU通过剂量调制改善掩模透射率
机译:超低剂量阿片受体拮抗剂对与吗啡耐受相关的行为和神经化学反应的调节
机译:嵌入Si量子点的ZnO薄膜的透光率和电性能的改善
机译:纳米热变色学:介电主体中VO2纳米粒子的计算显示出大大提高的透光率和太阳能透射率调制