首页> 外文会议>International Nano-Optoelectronics Workshop >Controller of Target Power Supply in Multi-Arc Ion Vacuum Deposition
【24h】

Controller of Target Power Supply in Multi-Arc Ion Vacuum Deposition

机译:多电弧离子真空沉积中的目标电源控制器

获取原文
获取外文期刊封面目录资料

摘要

A controller based around DSP techniques is built. The purpose of controller is to isolate the faulty or failed target power supply to a nicety, and ensure safety with minimal disruption to vacuum deposition.
机译:构建了基于DSP技术的控制器。控制器的目的是将故障或失败的目标电源隔离为1质量,并确保对真空沉积的破坏性最小的安全性。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号