交互積層法と無電解めっき法による高分子--金属複合材料の形態制御

摘要

無電解めっき法は触媒を用いた溶液中での酸化還元反応による金属コーティング絵であり、電気めっきのように通電を必要としないため、プラスチックやセラミックスのような絶縁体にもめっき可能である。さらに、基材の形状や種類にかかわらず均一な厚みの金属皮膜が得られる。最近では、無電解めっきによって形態制御した金属ナノ材料の合成が試みられている。F房ik郡aらは、基板上にレジスト法で作製したパターン上に無電解めっきし、その後のパターン部位の除まによって金属ナノフィンアレイの合成を行っている[1].にまたNakagawaらは、金属イオンを配位可能な分子から形成される超分子集合桝こ無電解めつきで金属コートし、分子集合体を除去することで金属ナノロッドの合成を報告してい刹聞。山方、我々はこれまで静電相互作用を駆動力とする交互積層法によって高分子電解質多層膜を様々なテンプレート上に作成し、中空カプセルなどの合成を行っている。さらに、これをゾルーゲル法などによって酸化物材料を複合化することで有機一無機ハイブリッド材料を作製することに成功している。交互積層法では、テンプレートの選択によって様々な形態の材料が合成可能であり、さらに官能基の導入が容易である事から、無電解めっき陰に必要な触媒を多層膜内に選択的に担持させることにより、金属材料の形態制御した合成が可能であると考えられる。そこで本研究では交互積層法と無電解メッキ汝を用いて様々な金属の形態制御技術を確立するため、ガラス基板を動いて鮎?合金メッキ薄膜を?、またポリスチレン（PS）粒子を用いてNi-P合金コア-シェル粒子および中空カプセルの作製、さらにメンプレンフィルターを用いたナノチ．ユーブの作製を試みた。