机译:高压放电系统实验中过剩热功率,杂质核素和X射线产生的实验结果
机译:使用辉光放电质谱法分析Ta膜中的痕量杂质:通过施加负衬底偏置电压来杂质浓度变化
机译:钛阴极为0.8-2.45 kV的氘在高电流脉冲辉光放电中的DD反应增强和X射线生成
机译:在高电流辉光放电实验中生产过量的热量,杂质元素和非天然同位素比例
机译:元素和同位素比质谱法具有流动的大气压余辉和大气压溶液阴极辉光放电电离源
机译:使用IsoCorrectoR稳定同位素标记实验校正MSMS / MS和高分辨率多示踪数据中的自然同位素丰度和示踪杂质
机译:在高电流辉光放电实验中产生过多的热,杂质元素和不自然的同位素比
机译:用辉光放电光电光谱法测定act系元素同位素比值