ELECTRICAL PROPERTIES; INTERFACE MATERIAL; TANTALUM OXIDE HIGH-K FILMS;
机译:钛铝氧化物超薄膜作为高k栅极介电材料的热稳定性和电性能
机译:TaNx界面层对掺杂钽氧化物高k膜的影响
机译:界面层组成对高K应用外延Gd_2O_3薄膜电学性能的影响
机译:铪掺杂钽氧化物高k薄膜的散装和界面材料和电气性质
机译:高k电介质氧化锌薄膜晶体管的电不稳定性和界面电荷的研究。
机译:喷雾热解技术;高介电常数薄膜和发光材料的评论
机译:用于未来CMOS技术的掺钽氧化物高k栅极介电膜
机译:水合二氧化钛和水合三氧化二钒作为高温离子交换材料的性能