WET ETCH CHARACTERISTICS; HAFNIUM SILICATE LAYERS; various CVD deposition processes;
机译:原子层沉积法在硅上沉积硅酸Sil薄膜的特性
机译:气液混合沉积工艺原子层沉积方式沉积硅酸ha薄膜的金属氧化物半导体电容器特性
机译:湿法刻蚀形成的H硅酸盐界面层的特征
机译:铪硅酸盐层的湿法蚀刻特性
机译:用于45nm及以后工艺的氧化gate和硅酸ha栅氧化物的工艺开发,表征,瞬态松弛和可靠性研究。
机译:掺Pr3 +的硅酸ha薄膜的微观结构和光学性质
机译:未掺杂和掺Er3 +的ha硅酸盐层的光谱和结构研究。
机译:氧化铪,硅酸镉和碳化铪的参考文献