NANOCOMPOSITE; SPUTTERING; TARGET;
机译:三元元素(X = Si,B,Cr)对单合金靶磁控溅射工艺沉积TiAlN涂层的影响
机译:常规磁控溅射沉积和等离子增强磁控溅射沉积Ti–Si–C–N纳米复合涂层的比较研究
机译:反应性和非反应性磁控溅射CrAlSiB靶沉积的Cr-Al-Si-B-(N)硬涂层
机译:通过具有单个合金化靶的反应磁控溅射工艺沉积纳米复合材料Mo-Cu-n涂层
机译:通过反应磁控溅射沉积的亚稳态钛(0.5)铝(0.5)铝合金薄膜的物理性能。
机译:由双相磷酸钙靶沉积的射频磁控溅射涂层用于生物医学植入物应用
机译:使用单个热压靶材通过射频磁控溅射沉积TiAlBN纳米复合涂层的表征