copper; oxalic acid; electrodeposition; dissolution; impedance; dendritic growth;
机译:CMP后清洗中浓和稀草酸介质中铜的溶解和电沉积的研究
机译:草酸水溶液中集成电子微电路“ CMP后清洗”过程中铜图案腐蚀的研究
机译:通过在无酸/稀酸电解质中通过电化学溶解电沉积的铂纳米颗粒的环保和工业友好再循环
机译:CMP清洗后浓缩和稀释草酸介质中铜溶出与电沉积的研究
机译:在酶促水解之前,先将磷酸和草酸稀释为木质生物质的预处理剂。
机译:稀酸和浓酸从虾壳中提取后的壳聚糖性能比较
机译:封面特征:通过电化学溶出 - 电沉积在无酸/稀酸电解质中的电化学溶解电沉积环保和工业友好再循环(Chemsuschem 21/2018)