Ion beam lithography; nanotechnology; resists; semiconductor device fabrication; topography;
机译:使用两步NERIME纳米光刻工艺对纳米级特征进行图案化
机译:使用两步NERIME纳米光刻工艺制造纳米级器件特征
机译:使用具有纳米级棒状图案的Si压模改善热纳米压印过程中非均匀抗蚀图案的性能
机译:使用2步骤内部FIB TSI工艺进行图案化纳米级抗蚀剂的地形基板
机译:H极化的电磁场:地形学,各向异性,对高电阻或导电性基质的释放以及电导率的横向变化的影响。
机译:在地形上进行图案化以生成具有独立纳米级化学和地形学细胞外基质提示的细胞培养底物
机译:使用胶体光刻和等离子处理技术在硅基板上进行纳米级蛋白质构图