CD metrology; CD SEM; scatterometry; AFM; dual beam; HV SEM;
机译:使用快速工艺优化计量技术的32nm节点Usj形成
机译:降低功耗的含二氧化硅和高K氧化物的MOS电路(45nm,32nm和22nm)的仿真研究
机译:通过45纳米/ 32纳米制程方法学时序分析考虑操作保证中的波动
机译:适用于45nm和32nm节点的CD计量
机译:用于22nm以下3D器件结构的CD计量的带电粒子成像方法。
机译:淋巴结细针穿刺术中CD4 / CD8 T细胞比率的增加是否有助于诊断霍奇金淋巴瘤? CD4 / CD8比增加的85个淋巴结FNA的研究
机译:流水线纳米高速缓存的能量/功率分解(90nm / 65nm / 45nm / 32nm)