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Untersuchung und Validierungsverfahren zur Emissionsmessung von Komponenten in der Absorberhalle gemass CISPR 25

机译:Absorber Hall Gemas CISPR 25中组件排放测量的检查和验证程序

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摘要

Das emittierte Feld einer Komponente (EUT) kann in einer Absorberkammer gemessen werden. Zur Nachbildung einer gut leitfahigen Umgebung wird das EUT gemass Anweisung der CISPR 25 auf einem Metalltisch [1, 2] positioniert und in definiertem Abstand die elektrische Feldstarke gemessen und bewertet. Dieser Beitrag untersucht Einflusse von gemass Norm zulassigen Grossenvariationen der leitfahigen Tischplatte, unterschiedliche Ausfuhrungen der Masseanbindung der Tischplatte an die Groundplane und Variationen der Kabelbaumenden auf das Ergebnis der Messung der elektrischen Feldstarke. In der dritten Version der CISPR 25 wird der zu messende Frequenzbereich bis auf 2500 MHz erweitert. Die Angabe von Strahlungsdiagrammen der untersuchten Anordnungen ermoglicht eine Betrachtung der Wahrscheinlichkeit der Messung des Maximums der Emission mit dem CISPR 25 Messverfahren.
机译:组分(EUT)的发射场可以在吸收室中测量。为了再现开展的环境,根据CISPR 25的EUT定位在金属表[1,2]上并在限定的距离中测量并评估电场强度。该贡献研究了MALAS规范的影响批准的导电桌面的大变化,桌面的地面连接的不同执行情况以及电缆结构的变化结束了电场强度的测量结果。在CISPR 25的第三个版本中,要测量的频率范围可扩展至2500 MHz。所检查布置的辐射图的指示允许考虑利用CISPR 25测量方法测量发射最大值的概率。

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