excimer laser; long pulse; 157 nm; 193 nm; gas discharge; x-ray preionisation;
机译:准分子ArF激光器,在He:Ar:F_2混合物上的输出能量为1.3 J,效率为2.0%
机译:用于ArF和F_2受激准分子激光光刻中的二元掩模应用的Fabry-Perot型抗反射涂层
机译:使用ArF受激准分子激光器通过脉冲激光沉积技术沉积的掺杂Mg的磷酸钙涂层的表征
机译:长脉冲ARF和F_2准分子激光器
机译:ArF准分子激光角膜消融:激光重复频率和基本激光-组织耦合的影响。
机译:准分子激光与脉冲染料激光治疗指甲牛皮癣的单盲左右比较研究
机译:高重复频率(6 kHz)和长脉冲持续时间(50 ns)的ArF受激准分子激光器,用于低于65 nm的光刻
机译:用arF(193 nm)准分子激光脉冲激光沉积非晶类金刚石薄膜