photolithography; integrated circuit design; time to market; cost reduction; phase shifting masks; imaging; integrated circuit manufacture; optical maskless lithography; wafer design; market pressures force design; manufacturing community; control cost; time to market; phase shifting;
机译:用于无掩模光刻光学仪器操纵的冗余并联机构的运动学设计
机译:快速声光雕刻,用于按需非掩模光刻
机译:无掩模投影光刻技术,可快速灵活地生成灰度蛋白质图案
机译:光学无掩模光刻技术,可快速,低成本地设计晶圆
机译:用于无掩模EUV光刻的纳米镜的设计,制造和光学分析
机译:快速声光雕刻用于按需非掩模光刻
机译:基于聚合物基微光学结构的多功能和低成本制造的无掩模光刻
机译:直写无掩模光刻系统无损压缩算法的体系结构和硬件设计