机译:群集光刻工具中受控的晶圆释放:灵活的流水线作业释放计划和LMOLP启发式
机译:InP / GalnP岛在通过微球光刻技术产生的GaAs衬底上的周期性孔图案上的位置控制生长
机译:通过扫描低聚物(乙二醇)封端的SAM的近场光刻技术进行的DNA纳米加工:头基团氧化和尾基团降解之间受控的扫描速率依赖性切换
机译:光刻制造过程的自适应建模和H / sub / spl infin //控制
机译:通过在线计量进行深亚微米光刻控制
机译:光刻制造的间隔物阵列可在电润湿显示器中提供机械强度和油运动控制
机译:用于电控液晶光子带隙光纤器件的厚光刻胶涂层的光刻
机译:聚硅烷抗蚀剂的受控环境光刻法为193nm。