逐次浸透合成による光ナノインプリント成形パターンの倒れ欠陥と架橋剤添加による欠陥抑制

摘要

逐次浸透合成 (SIS) は、反応性無機前駆体と酸化剤の交互暴露による浸透と酸化を繰り返し、有機材料内部に有機－無機ハイブリット構造を形成する手法である。我々はトリメチルアルミニウム (TMA) を無機前駆体としたAlOxのSISを施すことにより、光ナノインプリント用樹脂薄膜のエッチング耐性の向上を示してきた。本研究では、AlO_xのSISにおけるサブ50 nmラインパターンの形状安定性向上を目指し、易凝縮性ガスtrans-1,3,3,3-tetrafluoropropene (TFP) 利用光ナノインプリントに適したガス吸収が僅少な多官能架橋剤を選定し、架橋剤添加による無機前駆体暴露に対する成形パターンの形状安定性を検討した。