法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-03-11
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 1/00 授权公告日:20110817 终止日期:20140115 申请日:20080115
专利权的终止
2011-08-17
授权
授权
2009-10-28
实质审查的生效
实质审查的生效
2009-01-07
公开
公开
机译: 图案缺陷检查方法,用于检查图案缺陷的测试图案基材,图案缺陷检查装置,制造光掩模的方法以及用于显示装置的基材的制造方法
机译: 图案缺陷检查方法,图案缺陷检查测试图案基板,图案缺陷检查装置,光掩模制造方法和显示装置基板制造方法
机译: 图案缺陷检查方法,用于检查图案缺陷的测试图案基材,图案缺陷检查装置,制造光掩模的方法以及用于显示装置的基材的制造方法