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【24h】

埋め込みMRAM に向けた純スピン流源BiSb の熱耐久性の向上

机译:纯旋转流量BISB嵌入式MRAM的耐热性提高

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摘要

不揮発性メモリである磁気抵抗メモリ(MRAM)を埋め込みメモリとして応用することが注目されている。さらにトポロジカル絶縁体であるBi_(1-x)Sb_xをスピン流源としてSOT-MRAM を構成することで超低電力での書き込み動作が可能であると報告されている。しかしBi_(1-x)Sb_xは融点が約300°Cの材料であり、CMOS ロジック回路製造プロセスに準拠する必要がある埋め込みメモリとして応用するためには配線後の400°C程度のアニール工程における熱対策が必要である。
机译:磁阻存储器是非易失性存储器的(MRAM)适用于嵌入式内存它引起了注意力。此外,拓扑作为自旋流源Bi_(1-x)SB_X,其是边缘通过配置SOT-MRAM具有超低功耗的书籍据报道,据报道,融合操作是可能的。然而,Bi_(1-x)Sb_x是具有约300°C的熔点的材料充电和CMOS逻辑电路制造过程与需要兼容的嵌入式内存有关接线后约400°C的ANNIE需要在此过程中的热措施。

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